news 2026/7/5 8:28:58

散热难题催生变革:KAIST、SK海力士、英伟达等引领AI液冷技术革命

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张小明

前端开发工程师

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散热难题催生变革:KAIST、SK海力士、英伟达等引领AI液冷技术革命

KAIST的颠覆性突破

在芯片级散热领域,传统外部液冷方案面临瓶颈。6月16日,KAIST研究团队展示从芯片内部冷却的超高效液冷技术,未依赖特种导热材料,将“歧管微通道”结构雕刻在芯片内部,优势显著,商业化前景广阔。

HBM5时代的“热防御战”

在AI计算系统中,HBM热量积聚成瓶颈,存储芯片三巨头竞争焦点转向封装级热管理技术。SK海力士、三星、美光分别推出不同方案,影响未来AI芯片封装良率和制造成本。

英伟达Rubin平台的重构

英伟达在系统和数据中心级别推动革命,2026年6月21日披露Rubin平台散热架构,是全球首个100%全液冷AI计算平台,有诸多优势,还带动服务器制造商响应。

液冷初创公司的黄金时代

液冷技术成刚需,资本市场关注度高,Accelsius、Omen AI等液冷初创公司获巨额融资,二级市场投资者也看好液冷趋势。

边界之外的挑战

液冷技术虽有潜力,但并非解决AI能源危机的“万能药”,受地理环境、商业落地维护复杂性等因素制约,还存在“杰文斯悖论”。

结语

芯片冷却跃升为核心战略要素,冷却系统向热源逼近,掌握先进冷却技术是半导体产业链参与者的入场券。

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