上图为最常见的动态零点追踪技术,由于Mc的漏极连接电容,所以电流很小,我们可以将此管设计在线性区作为电阻使用。Rc可以写成1/UnCox(W/L)(Vgs-Vth),所以该电阻可以通过尺寸来控制,而Cc和Rc产生的零点为1/Cc*Rc。
所以P2点有三路并联,分别为Cc和Mc形成的电阻,Power transistor产生的寄生电容,R2out。
通过KCL可以列方程求得p2点产生的零极点,该位置的极点我们设计为主极点,最终的结果为产生两个极点和一个零点,P21=1/(Rc+R2out)Cc,此为主极点。产生的另一个极点P22的值为1/(Rc//R2out)*Cp(由于R和C都小,所以该极点理论上对稳定性无影响)。
需要总结的是:一个节点最多带来一个极点,如果超过一个,那么是由支路内部RC网络带来。
此外,输出端的极点为1/Co*Ro,Ro=1/I*lamda;我们希望使用零点跟踪并补偿该次极点,使得最终我们的LDO成为一个单极点近似系统。Cc应远大于Co,这样才能使零极点的位置接近。