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陕西网站建设营销推广,建设国外网站,vi设计公司,wordpress4.5.2文章采集知识星球#xff08;星球名#xff1a;芯片制造与封测技术社区#xff0c;星球号#xff1a;63559049#xff09;里的学员问#xff1a;温度能影响干法刻蚀的哪些方面#xff1f;麻烦讲一讲表面温度对干法刻蚀的影响主要包括#xff1a;聚合物沉积#xff0c;选择性星球名芯片制造与封测技术社区星球号63559049里的学员问温度能影响干法刻蚀的哪些方面麻烦讲一讲表面温度对干法刻蚀的影响主要包括聚合物沉积选择性光刻胶流动、产物挥发性与刻蚀速率表面形貌等。聚合物沉积工艺过程中产生的聚合物会在表面沉积影响刻蚀速率和选择性。温度影响聚合物的沉积速率和稳定性高温可使沉积层分解或减少低温则会增加聚合物沉积。选择性刻蚀材料和掩膜材料的选择性对温度非常敏感。温度过高会降低刻蚀选择性因为刻蚀速率加速会同时刻蚀掩膜。光刻胶光刻胶流动在高温下光刻胶会发生软化、流动甚至起泡导致形貌失真。产物挥发性与刻蚀速率温度影响化学反应的副产物挥发性高温下副产物更易挥发有助于提高刻蚀速率。而低温会导致副产物残留降低刻蚀效率。刻蚀形貌刻蚀温度接近材料的玻璃化温度 (Tg)表面形貌均匀。刻蚀温度远低于玻璃化温度表面刻蚀不均匀且粗糙度较大。